Ce procédé mis au point par PEM permet d'obtenir avec des couches d'or fines des caractéristiques fonctionnelles similaires à celles obtenues dans des épaisseurs classiques de connectique : typiquement de 0.4µm à 1.27 µm.
Le procédé utilise pour se faire, un ensemble de sous-couche de nickel et de nickel phosphore.
Dans la majorité des cas, l'épaisseur d'or peut être divisée par deux ou plus sans altérer le fonctionnement du produit et son vieillissement.